Проблемы и перспективы получения металлов высокой чистоты
Областями применения редких и рассеянных металлов высокой чистоты являются информатика, оптоэлектроника, авиационно-космические технологии, энергетика, медицина. Особое значение это имеет для обеспечения модернизации и технологического развития производства импортозамещающей конкурентоспособной редкометаллической и полупроводниковой продукцией. В настоящее время особую актуальность приобретают технологии, позволяющие организовать производство специальных материалов с ранее недостижимыми технологическими характеристиками.
С начала 70-х годов институт «Гиредмет» занимался получением полупроводниковых материалов и были достигнуты существенные успехи в очистке индия, галлия, мышьяка, сурьмы, фосфора для синтеза соединений A³B⁵. Пик развития этих технологий пришелся на 80-е годы, несколько научных школ изучали и предлагали свои способы получения металлов высокой чистоты. Нужно было не только получить металл, но и аналитически показать его чистоту. К сожалению, в 90-е и последующие годы мы в значительной степени потеряли и эти школы, и самих исследователей.
Несмотря на определенное отставание от мировых достижений, сегодня ведется интенсивный поиск материалов с новыми характеристиками для микроэлектроники, свойства которых позволили бы повысить быстродействие и уменьшить энергоемкость создаваемых интегральных схем.
В докладе будут затронуты следующие вопросы:
-
успехи в получении индия и галлия 6N;
-
создание маломасштабной мобильной установки для получения этих металлов;
-
проблемы получения мышьяка и сурьмы 6N;
-
высокочистые гранулированные мелкодисперсные (20-40 микрон) порошки титана, циркония, гафния с низким (0,001%) содержанием кислорода для аддитивных технологий;
-
йодидный титан чистотой не ниже 99,999% для микроэлектроники;
-
проблемы анализа материалов чистотой 6-7N.
